Описание
Данная установка отличается компактными размерами и предназначена для формирования тонких пленочных покрытий на поверхности различных материалов. Оборудование оснащено вакуумным столиком, обеспечивающим надежную фиксацию подложек, и специализированной системой фиксации пленки, обеспечивающей высококачественные результаты.
Установка широко используется в лабораториях для проведения различных высокотемпературных исследований пленочных покрытий, таких как керамические пленки, кристаллические пленки, пленки для аккумуляторов, специализированные нанопленки.
Установка проста в эксплуатации: достаточно поместить пленку на столик, установить прижимную планку и запустить процесс. Процесс нанесения пленки выполняется в автоматическом режиме. После завершения прижима пленки необходимо просто закрыть верхнюю крышку и запустить процесс сушки. Выполнение всех вышеперечисленных операций не требует специальных знаний от оператора.
Особенности и преимущества
- Компактные размеры.
- Наличие вакуумного столика для надежной фиксации подложки.
- Сенсорный экран с интуитивно понятным интерфейсом.
- Простота управления процессом нанесения и сушки пленки.
- Точный термостат для управления температурой сушки пленки.
- Мощные вентиляторы, встроенные в крышку установки.
- Малошумный вакуумный насос.
Технические характеристики
| Параметр | TMH 100-250 | TMH 150—250 | TMH 250—300 | TMH 250—350 | TMH 250-500 | TMH 250-800 |
| Максимальная площадь наносимого покрытия, мм |
100х250 |
150х250 |
250х300 |
250х350 |
250х500 |
250х800 |
| Ход ракеля, мм | От 10 до 250 | От 10 до 250 | От 10 до 300 | От 10 до 350 | От 10 до 500 | От 10 до 800 |
| Размеры вакуумного столика ШхД, мм | 100×365 | 150×365 | 250×400 | 250×450 | 250×650 | 250×900 |
| Электропитание | 110 В или 220 В переменного тока | |||||
| Скорость нанесения покрытия | 0…120 мм/сек, погрешность 10 мм/сек | |||||
| Вакуумный насос (опционально) | Безмасляный вакуумный насос | |||||
| Пленочный аппликатор | Аналоговый, фиксированная ширина покрытия, регулируемая толщина покрытия, точность нанесения ±10 мкм
Опционально: цифровой микрометр, функция регулировки ширины, различная толщина покрытия |
|||||
| Подогрев столика (по умолчанию) | Нагревательный элемент установлен в рабочем столике, точность регулировки температуры +/-1°C, максимальная температура 120оС, возможность использования крышки для ускорения процесса сушки | |||||
| Функция нагрева крышки | Нагревательный элемент установлен в верхней крышке, точность регулировки температуры +/-1°C, крышка для удобства оснащена газомасляным амортизатором, максимальная температура 200оС | |||||
| Шероховатость поверхности | Ra0.1 | |||||
| Материал вакуумного столика | Алюминиевый сплав 5052 | |||||